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描画工程は、フォトマスク製造における最初の工程です。お客様からの回路パターンデータを電子ビームやレーザービームを使って露光していく作業を描画と呼んでいます。この工程では、最先端のリソグラフィ技術が用いられ、金属薄膜と感光材が塗布されたマスクブランクス（マスク用原板）にデータをビームで照射して回路パターンを形成します。
描画工程で使用する主な装置
- EB描画装置：
電子ビーム（Electron Beam）でパターンを照射する装置。 - レーザ描画装置：
レーザービームでパターンを照射する装置。
電子ビーム描画装置構成図
描画担当技術者の主な業務
- 新規立ち上げ
・新しいマスク製造における新規生産設備の仕様検討と生産ライン化 - 描画精度条件出しと設定
- 描画装置の維持管理
 
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