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写真に例えるなら描画という露光工程の次に行うのが現像です。回路パターンが描画された後に、高精度の現像技術によって微細パターンを精密に現像すると同時に、レジストを除去していきます。
現像工程で使用する主な装置
- EBレジスト現像装置：
電子ビーム（Electron Beam）で描画した後のレジストを現像する装置。 - フォトレジスト現像装置：
レーザービームで描画した後のレジストを現像する装置。
現像担当技術者の主な業務
- 新規立ち上げ
・新しいマスク製造における新規生産設備の仕様検討と生産ライン化 - 現像におけるプロセス条件出しと設定
- 現像装置の維持管理
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