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フォトマスク製造において、主に「描画～現像～エッチング～レジスト剥離・洗浄」の各工程において、不良・異常発生時の異常箇所解析およびその分析を行います。
解析・分析の具体的な作業
不良・異常箇所表面を走査電子顕微鏡＝SEMなどの装置を用いて形状撮影や元素分析を行って異常内容を分析します。解析・分析結果は異常の発生源と思われる工程にフィードバックし、今後の対策に役立てます。
解析・分析に使用する主な装置
- EDS（エネルギー分散型Ｘ線検出装置）
- SEM（走査電子顕微鏡装置）
走査電子顕微鏡の原理図
解析・分析担当技術者の業務
- 不良解析および分析
- 解析・分析装置の維持管理
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