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DTFロードマップ:微細化に対する優位性

■先行可能な技術力を活かした次世代製品開発へ。

DTFロードマップ ハーフトーンマスク(ArF膜) ハーフトーンマスク(KrF膜) バイナリーマスク(Cr膜)

当社は、製品開発でフォトマスクユーザでもあるキオクシアから半導体デバイスの最先端情報を入手できる立場にあります。そのため、さまざまな技術で世界標準よりも常に先行できる優位性をもっています。また、フォトマスク製造装置メーカ、材料メーカなどとの密接な関係から、最新鋭の製造装置を導入し、常に世界に先駆けて最先端のフォトマスクを供給しています。

また、最先端半導体デバイスの開発計画を踏まえ、想定されるフォトマスクの需要予測から新技術の開発を継続的に行っています。その開発・供給体制の場として、神奈川県にある本社 川崎工場をフォトマスク開発・製造拠点、そして、岩手県の北上工場を量産製造拠点と位置付けています。それぞれの拠点は、相互補完体制を保持しつつ、最先端のクリーンルーム・製造ラインを整備・構築し、次世代フォトマスク製品の開発・量産化を実践しています。

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