1973年	川崎市の東京芝浦電気(株)トランジスタ工場にフォトマスク製造ライン設立
1978年	東芝機械(株)製EB描画装置を導入し電子ビームによるフォトマスク製造ライン確立
1989年	フォトマスク製造ラインを㈱東芝 小向工場#30号棟へ新設
1998年 1月	北上市の岩手東芝エレクトロニクス(株)に北上 第1期クリーンルーム建設
	川崎よりEB描画装置を移設しフォトマスク製造ライン確立
2000年 3月	ディー・ティー・ファインエレクトロニクス(株)設立
2000年 4月	ディー・ティー・ファインエレクトロニクス(株)として川崎、北上にてフォトマスク生産開始
2001年 12月	北上 第2期クリーンルーム増設
2002年 12月	ISOー9001 1994年度版 認証取得
2003年 12月	ISOー9001 2000年度版 認証取得
2008年 8月	北上 第3期クリーンルーム増設