沿革

沿革

1973年 川崎市の東京芝浦電気(株)トランジスタ工場にフォトマスク製造ライン設立
1978年 東芝機械(株)製EB描画装置を導入し電子ビームによるフォトマスク製造ライン確立
1989年 フォトマスク製造ラインを㈱東芝 小向工場#30号棟へ新設
1998年 1月 北上市の岩手東芝エレクトロニクス(株)に北上 第1期クリーンルーム建設
川崎よりEB描画装置を移設しフォトマスク製造ライン確立
2000年 3月 ディー・ティー・ファインエレクトロニクス(株)設立
2000年 4月 ディー・ティー・ファインエレクトロニクス(株)として川崎、北上にてフォトマスク生産開始
2001年 12月 北上 第2期クリーンルーム増設
2002年 12月 ISO-9001 1994年度版 認証取得
2003年 12月 ISO-9001 2000年度版 認証取得
2008年 8月 北上 第3期クリーンルーム増設
2009年 6月 ISO-9001 2008年度版 認証取得
2011年 3月 OHSAS18001 2007年度版 認証取得
2018年 7月 ISO-9001 2015年度版 認証取得
川崎工場
川崎工場
北上工場
北上工場
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