フォトマスク製造フロー
レジスト剥離・洗浄工程

レジスト剥離工程で使用する主な装置

• ドライ系剥離装置：
  真空中のアッシング室にガスを導入し、圧力調整を行いμ波電源を印加してプラズマを発生させる。そしてその中のラジカルを用いてレジストアッシングする装置。
• ウェット系剥離装置：
  薬液を用いてレジスト剥離する装置。

洗浄工程に使用する装置

薬液や超純水などを用いてフォトマスクを精密洗浄します。

レジスト剥離・洗浄担当技術者の主な業務

• 新規立ち上げ
  
  • 新しいマスク製造における新規生産設備の仕様検討と生産ライン化
• レジスト剥離におけるプロセス条件出し・洗浄条件出しと設定
• レジスト剥離装置・洗浄装置の維持管理