フォトマスク製造フロー
修正工程
修正とは
外観検査で設計データに対して、何らかの不具合が見つかった欠陥部を装置を使用して異物の除去を行ったり、正確なパターンへと復元させる作業です。欠陥部は「白欠陥」と「黒欠陥」に大別されます。白欠陥は、回路パターンの一部が欠落したり、ピンホールが空いた状態。黒欠陥は、本来なら光が透過する部分に金属薄膜や異物が残っている状態です。
修正で使用する主な装置
- レーザー修正装置：
固体レーザーを欠陥部に照射し、熱的に蒸発させて異物を除去する装置。 - FIB修正装置：
FIB＝集束イオンビームを用いて微細な欠陥を修正する装置。
パターンの一部が欠落している白欠陥にカーボンを堆積する「白欠陥修正」と、本来光が透過する部分にできた黒欠陥をエッチング除去する黒欠陥修正の両方が可能です。
フォトマスクリペア装置 SIR-5000
FIBマスクリペア装置の概要図
FIB（集束イオンビーム）による欠陥修正原理
修正担当技術者の主な業務
- 新規立ち上げ
- 新しいマスク製造における新規生産設備の仕様検討と生産ライン化
- 修正精度条件出しと設定
- 修正装置の維持管理
