COMPANY PROFILE
沿革
| 1973年 | 川崎市の東京芝浦電気株式会社トランジスタ工場にフォトマスク製造ライン設立 |
|---|---|
| 1978年 | 東芝機械株式会社製EB描画装置を導入し電子ビームによるフォトマスク製造ライン確立 |
| 1989年 | フォトマスク製造ラインを株式会社東芝 小向工場30号棟へ新設 |
| 1998年 1月 | 北上市の岩手東芝エレクトロニクス株式会社に北上 第1期クリーンルーム建設 |
| 川崎よりEB描画装置を移設しフォトマスク製造ライン確立 | |
| 2000年 3月 | ディー・ティー・ファインエレクトロニクス株式会社設立 |
| 2000年 4月 | ディー・ティー・ファインエレクトロニクス株式会社として川崎、北上にてフォトマスク生産開始 |
| 2001年 12月 | 北上 第2期クリーンルーム増設 |
| 2002年 12月 | ISO-9001 1994年度版 認証取得 |
| 2003年 12月 | ISO-9001 2000年度版 認証取得 |
| 2008年 8月 | 北上 第3期クリーンルーム増設 |
| 2009年 6月 | ISO-9001 2008年度版 認証取得 |
| 2011年 3月 | OHSAS18001 2007年度版 認証取得 |
| 2018年 7月 | ISO-9001 2015年度版 認証取得 |
| 2020年 3月 | ISO-45001 2018年度版 認証取得 |
